《分子光刻理论：半导体工业的未来基石》一书由著名材料科学家约翰·A·诺顿（John A. Norton）所著，由剑桥大学出版社于2010年出版，本书深入探讨了分子光刻理论在半导体工业中的应用及其对未来技术发展的重要性。
作者简介：
约翰·A·诺顿，美国著名材料科学家，长期从事半导体材料与器件的研究，他在分子光刻领域的研究成果丰富，为半导体工业的发展做出了杰出贡献。
书籍信息：
出版社：剑桥大学出版社
出版时间：2010年
本书介绍：
《分子光刻理论：半导体工业的未来基石》一书全面介绍了分子光刻技术的理论基础、实验方法以及在实际应用中的挑战和机遇，本书旨在为读者提供一个关于分子光刻技术的全面视角，包括其历史背景、技术原理、最新进展以及未来发展趋势。
大纲：
第一章：引言
- 半导体工业的发展历程
- 分子光刻技术的兴起
- 本书的目的和结构
第二章：分子光刻技术原理
- 分子光刻的基本概念
- 分子光刻与传统光刻技术的比较
- 分子光刻的物理和化学基础
第三章：分子光刻实验方法
- 分子光刻的实验装置
- 分子光刻的实验步骤
- 分子光刻的实验结果分析
第四章：分子光刻在半导体工业中的应用
- 分子光刻在制造纳米级器件中的应用
- 分子光刻在微电子领域的应用
- 分子光刻在光电子领域的应用
第五章：分子光刻的挑战与机遇
- 分子光刻技术面临的挑战
- 分子光刻技术的创新方向
- 分子光刻技术的未来发展趋势
第六章：结论
- 分子光刻技术在半导体工业中的重要性
- 分子光刻技术对未来技术发展的贡献
- 分子光刻技术的未来展望
通过本书的阅读，读者可以深入了解分子光刻技术的理论基础、实验方法及其在半导体工业中的应用，为我国半导体技术的发展提供有益的参考。